综上分析，其实华国目前真正缺的，不是中低端的DUV光刻机，而是7纳米以内高端制程的EUV光刻机。

这不但体现在进口光刻机，国产光刻机同样如此。

目前魔都微电子已经可以量产，90nm制程的DUV光刻机了，

28nm的DUV浸没式光刻机，也已经有了工程样机，达到量产也已经是指日可待了。

而一旦彻底掌握了浸没式技术，再继续压缩制程，也就变成水到渠成了。

比如康驰手上这块14纳米制程的显卡，只要在28nm的DUV浸没式光刻机基础上，加个双工作台模式就能达到，

因此属于国内其它研发团队，可能很快就能突破的技术。

所以从必要性上看，也难怪康驰会考虑有没有解析它的必要。

而以如今的康驰的成就，就算造出了EVU光刻机，想必大家虽然惊讶，但肯定不会觉得他是外来物种……

想到这里，康驰果断选择了给这张显卡升级！

通用经验-3196！

随着一道微光闪过，这张显卡的外形再次发生了变化。

【物品：硅晶图像处理器】

【制造者：康驰】

【物品等级：8】

【经验：0/9600】

【物品状态：完好】

【物品参数：9纳米制程工艺，主频1.6GHz，12GBDDR6显存】

【解析项目：可解析】

【通用经验：60042】

【精通点：43.6】

9纳米？

这个制程就有点暧昧了啊……

属于EUV和DUV都能造的制程。

不过最低7nm，毕竟只是浸没式DUV光刻机的理论最小工艺节点，也就是技术压榨到极致才能做到的。

以系统的逼格之高，应该不至于这么小气，把一项技术压榨到这么极限给自己吧？

所以这个9纳米制程，大概率还是EUV光刻机造的。

康驰打开解析面板，看到上面写着‘9纳米光刻机制造工艺’需要消耗40点精通点，比之前多出10点也进一步佐证了康驰的猜测。

好在康驰这段时间搓了挺多镜头生产线，以及采油虫的零部件生产设备，赚了十多点的精通点。